Pelapisan Hidroksiapatit Nano Dengan Metode Electro Phoretic Deposition pada Ti6Al4V ELI untuk dental implant

Abstract

Ti6Al4V ELI merupakan paduan Titanium yang dipakai untuk implan karena memiliki kekuatan mekanis yang baik dan biokompatibilitas terhadap tubuh tetapi material ini kurang bioaktif sehingga perlu dilapisi hidroksiapatit (HA). Tujuan penelitian ini untuk melihat pelapisan hidroksiapatit pada permukaaan material. Penelitian ini tentang pelapisan hidroksiapatit nano dengan metoda elektro phoretik deposition (EPD) pada Ti6Al4V ELI dengan tegangan 5 V dan waktu 5 menit setelah itu di sintering suhu 800 ºC. Hasilnya lapisan permukaan material merata, padat, homogen dan tidak ada tracking yang diamati dengan scanning elektron microscopi (SEM).